硼靶制備技術(shù)

技術(shù)原理

含核靶成分的物質(zhì)通過(guò)物理氣相沉積或者化學(xué)氣相沉積方法在襯底上成膜，再經(jīng)過(guò)濕法刻蝕實(shí)現膜的剝離，最后撈取在一個(gè)金屬框架（靶框）上，獲得自支撐核靶。

技術(shù)意義

 

                                     氫硼反應原理圖                                                      自支撐硼膜                                                              硼膜形貌

含有被轟擊原子核的實(shí)體稱(chēng)為核靶，簡(jiǎn)稱(chēng)靶。自支撐靶是單純由核靶材料組成的一層薄膜靶，用一個(gè)金屬框架（靶框）支撐著(zhù)，其優(yōu)點(diǎn)是沒(méi)有襯底材料的干擾。在低能核物理、激光核物理、原子核化學(xué)試驗中都需要核靶，核靶制備是這些實(shí)驗成功與否的關(guān)鍵問(wèn)題之一，尤其是自支撐靶。 

新奧科技核靶制備能力

新奧科技具有磁控濺射物理氣相沉積和化學(xué)氣相沉積平臺制備核靶，能夠制備納米級到微米級自支撐硼核靶，包括純硼靶、氫硼靶等，已制備了微米級自支撐硼核靶用于氫硼聚變物理驗證實(shí)驗。

技術(shù)優(yōu)勢

新奧科技的氣相沉積方法制備核靶，加熱溫度低、制備周期短、核靶質(zhì)量高、適用范圍廣。